湖北富思特材料科技集团有限公司
BOPP转移基膜
所属分类:
产品特点
镭射转移基膜:模压适应性佳,光栅图案清晰,亮度佳,具有良好的蒸镀性能,可据用途设计不同的镀铝层剥离强度,可据客户工序需求实现定点错位转移或完全转移,将镀铝层上的全息图案剥离至其他难于直接模压的基材上。 镭射冷转移基膜:除具有镭射转移基膜的基本性能以外,可根据转移用途通过UV或水性胶等介质,将镭射图案进行多次重复转移到其他难以模压的基材上,图案损失少,变形量小。此产品不适用于镀铝转移。 消光转移基膜表层消光度细腻均匀,适用于不同介质的转移工序,可根据客户的需求生产不同哑度的产品,可进行大面积转移或局部定点转移。 消光转移基膜表层消光度细腻均匀,适用于不同介质的转移工序,可根据客户的需求生产不同哑度的产品,可进行大面积转移或局部定点转移。
应用范围
镭射转移基膜和镭射冷转移基膜,广泛应用于防伪商标、防伪包装及许多饮品、药品、化妆品、食品(如烟盒、酒盒、茶叶、饼干等)的包装,通过介质将镭射图案转移到其他难于直接模压的基材上。
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产品详情
产品分类
● 镭射转移基膜:Holographic Transfer Base Film
● 镭射冷转移基膜:Holographic Cold Transfer Base Film
● 消光转移基膜:Matte Transfer Base Film
产品规格
● 厚度Thickness(micron ):20~32
● 宽度Width(mm):500~2000
● 收卷长度Length(m):4000~6000
● 管芯内径Paper Core(inch):3’’ or 6’’
注:其它规格可根据客户要求生产。
产品特点
镭射转移基膜:模压适应性佳,光栅图案清晰,亮度佳,具有良好的蒸镀性能,可据用途设计不同的镀铝层剥离强度,可据客户工序需求实现定点错位转移或完全转移,将镀铝层上的全息图案剥离至其他难于直接模压的基材上。
镭射冷转移基膜:除具有镭射转移基膜的基本性能以外,可根据转移用途通过UV或水性胶等介质,将镭射图案进行多次重复转移到其他难以模压的基材上,图案损失少,变形量小。此产品不适用于镀铝转移。
消光转移基膜表层消光度细腻均匀,适用于不同介质的转移工序,可根据客户的需求生产不同哑度的产品,可进行大面积转移或局部定点转移。
消光转移基膜表层消光度细腻均匀,适用于不同介质的转移工序,可根据客户的需求生产不同哑度的产品,可进行大面积转移或局部定点转移。
典型数据
|
性能 |
测试方法 |
单位 |
典型值 |
|
|
厚度 |
GB/T 6672 |
micron |
22 |
|
|
拉伸强度MD/TD |
GB/T 1040.3 |
MPa |
150 / 283 |
|
|
断裂伸长率MD/TD |
GB/T 1040.3 |
% |
162 / 58 |
|
|
热收缩率MD/TD |
GB/T 10003 (120℃, 2min) |
% |
3.0 / 0.2 |
|
|
热封强度 |
GB/T 10003 |
% |
3.3 |
|
|
雾度 |
镭射转移基膜、冷转移基膜 |
GB/T 2410 |
% |
2.0 |
|
消光转移基膜 |
GB/T 2410 |
% |
38-80 |
|
|
光泽度 |
镭射转移基膜、冷转移基膜 |
GB/T 8807 |
% |
94 |
|
消光转移基膜 |
GB/T 8807 |
% |
30-12 |
|
(以上数据均为代表值,非规定值。)
荣誉资质
生产实力
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